金融界2024年12月20日音讯，国家知识产权局信息数据显现，武汉飞恩微电子有限公司获得一项名为“一种通气结构及设备”的专利，授权公告号 CN 222170163 U，请求日期为 2023 年 10 月。
专利摘要显现，本请求供给一种用于压力传感器或其他设备的一种通气结构，其包含用于使壳体的内腔连通至壳体的外部的通气道，其所述通气道包含绕一迂回通气道，所述迂回通气道的上侧一端通过防水透气膜后连通至所述壳体的内腔，所述迂回通气道的下侧一端连通至壳体的外部；所述迂回通气道从其下端开端绕大致竖直的一中心轴线呈螺旋状地延伸至其上端。上述通气结构能防备射流或其他方式的明水进入压力传感器或其他设备中而阻止与外部的通气。
